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- 전량 수입되는 첨단 반도체용 케미컬 필터 국산화 - 국내 최초 10나노 케미컬 필터 개발 성공, 고객사 성능 평가 중 - 2025년 1분기중 15나노 및 10나노 제품 양산 공급 - 특허 3건 등록, 출원 4건 등 지적재산권 확보 시노펙스가 17일 경기도 동탄 사업장에서 ‘ 첨단 반도체 필터 생산 센터’ 준공식과 함께 국내 최초로 10나노 케미컬 필터 개발에 성공하여 전량 수입되는 첨단 반도체용 케미컬 필터 국산화에 나섰다. 이날 준공식에는 산업통상자원부 이승렬 정책실장, 한국산업기술기획평가원 전종윤 원장, 한국산업기술진흥원 이찬영 부원장, KOTRA 정외영 이사 등이 참석하여 ‘첨단 반도체 필터 생산 센터’ 준공을 축하했다.
 첨단 반도체 생산에 사용되는 케미컬 필터는 ePTFE 소재로 제작되며 반도체 생산공정에서 사용되는 불산, 황산, 같은 강산과 200도 이상의 고온에서 견디면서 불순물을 제거하는 역할을 한다. 현재 케미컬 필터에 사용되는 ePTFE 소재는 미국 기업이 전 세계 시장을 과점 하고 있으며, 국내기업에는 20나노 이하의 첨단 필터용 소재를 판매하지 않고 있어 20나노 이하급 첨단 필터에 대해 전량 수입에 의존하고 있는 상황이다. 이러한 상황에서 시노펙스는 2020년 8월 총 사업비 164억원 규모의 국책과제로 ‘반도체 공정용 불소수지계 나노 여과모듈 개발(과제명)’을 시작하여 2024년1월에는 15나노 케미컬 필터를 개발하는데 성공했다. 특히, 시노펙스는 국내 최초로 성인머리카락 두께(100마이크로)의 1만분의1에 해당하는 10나노급 첨단 케미컬 필터를 개발하는데 성공하여 고객사에서 성능에 대한 평가가 진행되고 있다고 밝혔다. 이번에 준공한 ‘ 첨단 반도체 필터 생산 센터’는 2025년 1분기 중 15나노 및 10나노 케미컬 필터를 양산하여 전량 수입되고 있는 케미컬 필터의 국산화 대체가 본격화할 전망이다. 이날 준공식에 참석한 산업통상자원부 이승렬 정책실장은 축사를 통해 “이번에 시노펙스에서 개발한 ‘반도체 공정용 필터’는 반도체 수율을 좌우하는 핵심적인 공정 부품이지만, 그간 100퍼센트 수입에 의존하고 있어 공급망 위기에 취약한 품목이었다.”고 말하고 “시노펙스가 짧은 시간 내에 원단, 필터 모듈에 이르는 모든 핵심 기술을 확보하였으며, 세계 선도 수준의 나노급 필터 개발을 축하” 했다. 또한 “오늘 생산라인 준공을 통해 핵심 부품 국산화의 본격적인 첫 발을내딛게 된 시노펙스가 반도체 필터 분야에서 내수와 수출을 책임지는 선도 기업이 되길 진심으로 기원한다”고 밝혔다. 시노펙스 손경익 대표이사는 “반도체 세정 공정에서 나노급 입자를 완벽하게 제거하는 케미컬 필터는 첨단 반도체 산업의 핵심 후방산업으로 그 동안 전량 수입에 의존해 왔다”며, “이번 생산 센터 준공으로 세계 최고 수준의 나노급 케미컬 필터를 국내에서 생산하고 공급할 수 있는 기반을 마련했다”고 말하고, “이를 통해 반도체 산업의 안정적인 공급망 구축은 물론, 글로벌 시장에서 국내 반도체 기업의 경쟁력 강화에 기여해 나가겠다.”고 밝혔다. 시노펙스가 이번에 준공한 센터는 △ 자체 디자인한 설비를 적용하고, △ 필터 원단에서, △ 필터 모듈까지 자체개발 하였으며, 향후 1나노급 첨단 제품 생산 대응이 가능하도록 최첨단 생산라인을 구축한 것이 특징이다. 시노펙스는 이번 개발 제품과 관련된 3건의 특허를 획득 했으며, 4건의 특허가 특허등록을 앞두고 있는 등 지적재산권 확보도 진행하고 있다.
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