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Synopex News

시노펙스, 나노섬유 기반 차세대 CMP 슬러리 필터 개발
2017.02.07

시노펙스는 6일 차세대 반도체 화학기계연마(CMP:Chemical Mechanical Polishing) 공정용 슬러리 필터를 개발했다고 발표했다.

오는 8일부터 10일까지 서울 삼성동 코엑스에서 개최되는 세미콘코리아 2017에 신제품을 전시할 예정이다. 
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